Norm

ISO 14706:2014 en

Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de elementaire verontreiniging van oppervlaktes van silicium wafers door totale-reflectie röntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)

98,05

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 25
Gepubliceerd op 01-08-2014
Taal Engels
ISO 14706 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: - elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); - contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 t o 1 × 1014 atoms/cm2; - contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de elementaire verontreiniging van oppervlaktes van silicium wafers door totale-reflectie röntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)
Engelse titel Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Vervangt

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen