Norm

NEN-EN-IEC 62374-1:2010 en

Halfgeleiders - Time dependent dielectric breakdown (TDDB) beproeving voor vaste metalen lagen

Volledig inclusief:

63,40

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 20
Commissie Halfgeleiders
Gepubliceerd op 01-12-2010
Taal Engels
This part of IEC 62374 describes a test method, test structure and lifetime estimation method of the time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers applied in semiconductor devices.

Details

ICS-code 31.080
Nederlandse titel Halfgeleiders - Time dependent dielectric breakdown (TDDB) beproeving voor vaste metalen lagen
Engelse titel Semiconductor devices - Part 1: Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers
Gewijzigd door

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen