Norm

NEN-EN-IEC 62418:2010 en

Halfgeleiderelementen - Beproeving op luchtbelspanning tijdens metallisatie

72,46

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 20
Commissie Halfgeleiders
Gepubliceerd op 01-08-2010
Taal Engels
This International Standard describes a method of metallization stress void test and associated criteria. It is applicable to aluminium (Al) or copper (Cu) metallization. This standard is applicable for reliability investigation and qualification of semiconductor process.

Details

ICS-code 31.080
Nederlandse titel Halfgeleiderelementen - Beproeving op luchtbelspanning tijdens metallisatie
Engelse titel Semiconductor devices - Metallization stress void test

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen