Norm

NEN-ISO 12406:2010 en

Chemische analyse van oppervlakken - Secundaire ionen-massaspectrometrie - Methode voor diepteprofielen van arseen in silicium

79,70

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 13
Gepubliceerd op 01-11-2010
Taal Engels
This International Standard specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 × 1016 atoms/cm3 and 2,5 × 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Secundaire ionen-massaspectrometrie - Methode voor diepteprofielen van arseen in silicium
Engelse titel Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth profiling of arsenic in silicon

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen