Norm

NEN-ISO 14706:2001 en

Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de verontreiniging van elementen aan de oppervlakte van plakjes silicium door totale reflectieröntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)

98,05

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 23
Gepubliceerd op 01-02-2001
Taal Engels
Specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to: - elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); - contamination element with atomic surface densities from 1x1010 atoms/cm² to 1x1014 atoms/cm²; - contamination element with atomic surface densities from 5x108 atoms/cm² to 5x1012 atoms/cm² using a VPD specimen preparation method.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de verontreiniging van elementen aan de oppervlakte van plakjes silicium door totale reflectieröntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)
Engelse titel Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen