Norm

NEN-ISO 14706:2001 en

Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de verontreiniging van elementen aan de oppervlakte van plakjes silicium door totale reflectieröntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)

106,87 129,31 Incl BTW

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 23
Gepubliceerd op 01-02-2001
Taal Engels
Specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to: - elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); - contamination element with atomic surface densities from 1x1010 atoms/cm² to 1x1014 atoms/cm²; - contamination element with atomic surface densities from 5x108 atoms/cm² to 5x1012 atoms/cm² using a VPD specimen preparation method.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Bepaling van de verontreiniging van elementen aan de oppervlakte van plakjes silicium door totale reflectieröntgenfluorescentiespectroscopie (TXRF)
Engelse titel Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen