Norm

NEN-ISO 17331:2004 en

Chemische analyse van oppervlakken - Chemische methoden voor de verzameling van elementen van het oppervlak van referentie-materialen voor silicium-wafels en hun bepaling door röntgenfluorescentiespectrometrie met totale reflectie (TXRF)

Volledig inclusief:

73,12

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 18
Gepubliceerd op 01-06-2004
Taal Engels
This International Standard specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method. This International Standard applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 × 109 atoms/cm2 to 5 × 1011 atoms/cm2.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Chemische methoden voor de verzameling van elementen van het oppervlak van referentie-materialen voor silicium-wafels en hun bepaling door röntgenfluorescentiespectrometrie met totale reflectie (TXRF)
Engelse titel Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Gewijzigd door

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen