Norm

NEN-ISO 23812:2009 en

Chemische analyse van oppervlakken - Secundaire ionen-massaspectrometrie - Methode voor dieptecallibratie voor silicium gebruikt in samengestelde deltalagen referentiematerialen

106,87

Over deze norm

Status Definitief
Aantal pagina's 19
Gepubliceerd op 01-04-2009
Taal Engels
This International Standard specifies a procedure for calibrating the depth scale in a shallow region, less than 50 nm deep, in SIMS depth profiling of silicon, using multiple delta-layer reference materials. This International Standard is applicable to single-crystalline silicon, polycrystalline silicon and amorphous silicon.

Details

ICS-code 71.040.40
Nederlandse titel Chemische analyse van oppervlakken - Secundaire ionen-massaspectrometrie - Methode voor dieptecallibratie voor silicium gebruikt in samengestelde deltalagen referentiematerialen
Engelse titel Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials

Winkelwagen

Subtotaal:

Ga naar winkelwagen